反应离子刻蚀 SHL100-RIE

样片尺寸

4英寸向下

8英寸向下兼容

8英寸向下

RF  功率源

0~300W/500W/1000W可调，自动匹配

分子泵

无/620(L/s)/1300(L/s)/定制

无/620(L/s)/1300(L/s)/定制

前级泵

机械泵/干泵

干泵

工艺控压

不控压/0~1Torr控压

气体种类

H2 /CH4 /O2 /N2 /Ar/SF6 /CF4 / CHF3 /C4F8 /NF3 /定制

(最多9路:不含腐蚀与剧毒气体

H2 /CH4 /O2 /N2 /Ar/F6 /CF4 / CHF3 / C4F8 /NF3 /Cl2 /BCl3 /HBr

(最多9路)

气体量程

0~5sccm/50sccm/100sccm/200sccm/300sccm/500sccm/定制

LoadLock腔

有/无

有

样片控温

10℃ ~室温/ -30℃~100℃/定制

-30℃~100℃/定制

背氦冷却

有/无

有

工艺腔内衬

有/无

有

腔壁控温

无/室温~60/120℃

室温~60/120℃

控制系统

全自动/定制

刻蚀材料

硅基材料：Si/SiO2 /石英/SiNx…… IV-IV材料：SiC                                   磁性材料/合金材料

金属材料：Ni/Cr/Al/Au……

有机材料：PR/PMMA/HDMS/有机 膜……

硅基材料：Si/SiO2 /石英/SiNx……         III-V材料(注3)   ：InP/GaAs/GaN…… IV-IV材料：SiC                                            II-VI材料(注3)   ：CdTe……                   磁性材料/合金材料

金属材料：Ni/Cr/Al/Au……

有机材料：PR/PMMA/HDMS/有机膜